发明名称 耐久的溅射金属氧化物镀层
摘要 本发明公开了一种方法和由该方法制得的产品,其中通过在包含惰性气体和一种活性气体但基本上是非活性的气氛中溅射金属阴极靶而沉积金属薄膜,其中活性气体的浓度足够低,使得溅射是在金属方式下完成的,即薄膜是以金属态沉积的。本发明的金属薄膜比在仅由惰性气体组成的气氛中溅射的金属薄膜硬度要高。本方法及由该方法制得的产品还可包括对该金属薄膜进行热氧化,它比在仅由惰性气体组成的气氛中溅射的金属薄膜的氧化更有效。
申请公布号 CN1105712A 申请公布日期 1995.07.26
申请号 CN94117931.1 申请日期 1994.11.11
申请人 PPG工业公司 发明人 J·J·芬利;M·阿巴博
分类号 C23C14/14;C23C14/34 主分类号 C23C14/14
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 徐汝巽
主权项 1、一种通过阴极溅射制备硬的金属薄膜的方法包括下面的步骤:a.把基板置于一个含惰性气体和活性气体的混合气的真空室里;b.溅射金属阴极靶,其中活性气体的浓度足够低使得金属是以金属方式溅射并沉积一层金属薄膜。
地址 美国宾夕法尼亚