| 发明名称 |
PARTICLE ANALYSIS OF WAFER IN WHICH NOTCH IS PROVIDED |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07181125(A) |
申请公布日期 |
1995.07.21 |
| 申请号 |
JP19940207688 |
申请日期 |
1994.08.31 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
YURI ESU URITSUKII;HARII KIYUU RII |
| 分类号 |
G01N15/00;G01N15/10;H01J37/256;H01L21/66;(IPC1-7):G01N15/10 |
主分类号 |
G01N15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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