发明名称 一种制备具低萤光之含伸 基二羧酸聚合物掺合物之方法
摘要 本发明关于具低萤光之含伸基二羧酸之聚合物组合物。更特定言之,本发明方法包括将含伸基二羧酸聚合物与0.1至5重量%熄灭萤光化合物熔化掺合,并将该掺合物以热形成制成物品;该熄灭萤光化合物选自含卤素芳族化合物、芳族酮或酚化合物。前述掺合物适用于重视透明和/或美观之包装应用上。
申请公布号 TW251301 申请公布日期 1995.07.11
申请号 TW083104182 申请日期 1994.05.09
申请人 伊士曼化学公司 发明人 大卫.艾尔.米尔斯;亚伦.史考特.琼斯
分类号 C08G63/189 主分类号 C08G63/189
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种制备具低萤光聚(伸乙基2,6-伸基二羧酸酯)掺合物之方法,包括:(I)熔化掺合(A)95.0至99.9重量含下列之聚酯(1)一种含来自85至100莫耳选自伸基-,-二羧酸及伸基-,-二羧酸酯之重覆单元之二羧酸组份;(2)一种含来自85至100莫耳以莫耳二羧酸及莫耳二醇为基准)乙二醇之重覆单元之二醇组份;以及(B)0.1至5重量熄灭萤光化合物,其选自芳族酮及酚化合物,其条件为该熄灭萤光化合物含有一个芳环,而该芳环具有至少一个直接连接至该芳环上之醯基或羟基;其中(A)和(B)总和重量为100;以及(Ⅱ)将该掺合物成形为一物品。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该二醇组份(2)为至少95莫耳之乙二醇。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中该熄灭萤光化合物含选自苯、、联苯和 之芳环。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中该醯基直接连接至芳环上,其结构为其中RC_4C选自CC_1C-CC_10C烷基、苯基以及基。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中该醯基选自乙醯基、苯甲醯基、1-或2-甲醯基以及丙醯基。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中该醯基为(CC_6CHC_5CCO-)。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中至少一个卤原子直接连接至该芳环上,且选自溴、碘及其组合。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中该熄灭萤光化合
地址 美国