| 发明名称 |
PHOTORESIST TREATING EQUIPMENT FOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0786153(A) |
申请公布日期 |
1995.03.31 |
| 申请号 |
JP19930252488 |
申请日期 |
1993.09.13 |
| 申请人 |
DAINIPPON SCREEN MFG CO LTD |
发明人 |
OGAMI NOBUTOSHI |
| 分类号 |
G02F1/13;H01L21/027;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G02F1/13 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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