首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR FORMING SILICON OXIDE FILM
摘要
申请公布号 JPH0758102(A) 申请公布日期 1995.03.03
申请号 JP19930217038 申请日期 1993.08.09
申请人 HITACHI ELECTRON ENG CO LTD;HITACHI LTD 发明人 ARAI HISAHIRO;SATO EIJI;NAGASAKI KEIICHI;HONMA YOSHIO;SAITO MASAYOSHI;NAKANISHI SHIGEHIKO
分类号 H01L21/205;H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com