Ionen-Implantationsgerät, in dem das elektrische Aufladen von Substraten vermieden wird.,申请号DE19906012414T-传众专利搜索

发明名称	Ionen-Implantationsgerät, in dem das elektrische Aufladen von Substraten vermieden wird.
摘要
申请公布号	DE69012414(T2)	申请公布日期	1995.02.16
申请号	DE19906012414T	申请日期	1990.05.08
申请人	SUMITOMO EATON NOVA CORP., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	TAMAI, TADAMOTO, TOKYO, JP;MURAKAMI, JUNICHI, TOYO-SHI, EHIME, JP
分类号	H01J37/02;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/317	主分类号	H01J37/02
代理机构		代理人
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