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<P>Au cours d'un micro-usinage par faisceau ionique focalisé, la gravure préférentielle ou anisotrope peut avoir pour résultat une surface inégale, semée de micro-cavités, compliquant considérablement les opérations de réparation et de test des circuits intégrés. On compense la gravure préférentielle par l'acquisition d'une image contrastée de l'échantillon partiellement usiné, suivie de la préparation de données constituant une image masque à partir de l'image contrastée, afin de commander la poursuite du micro-usinage par faisceau ionique focalisé au moyen des données de l'image masque. Supposons par exemple que l'on doive micro-usiner une fenêtre dans la couche supérieure d'alimentation d'un circuit intégré, pour exposer une couche cachée. La fenêtre est partiellement usinée. On acquiert une image par faisceau ionique et on la seuille pour produire les données de l'image masque. Celles-ci distinguent les zones où le plan d'alimentation a été percé, de celles où il n'a pas encore été traversé. L'usinage reprend en utilisant les données de l'image masque pour commander le courant d'usinage effectif du faisceau ionique. Les données de l'image masque sont périodiquement remises à jour au fur et à mesure de l'usinage.</P>
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