发明名称 电流注入式调制器
摘要 一种电流注入式调制器,它具有一单晶基片(12),基片(12)上依次配置有一内反射器(18)、共振腔层(20)和一外反射器(24),它们系这样配置,使得往其上加电流时,共振腔层的折射率就发生变化,从而改变调制器的光透射率。
申请公布号 CN1023838C 申请公布日期 1994.02.16
申请号 CN89100121.2 申请日期 1989.01.06
申请人 特尔斯特拉有限公司 发明人 彼得·查尔斯·肯门尼
分类号 G02F1/03 主分类号 G02F1/03
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张志醒;王忠忠
主权项 1.一种电流注入式调制器,具有这样的结构:有某一折射率的单晶基片,基片上依次配置有第一组取向生长单晶层形成的一个内反射器、一共振腔层和由第二组取向生长单晶层形成的外反射器,该结构至少有一部分(即一层或一层以上的内反射器、基片和共振腔层)是导电的,而且是P型导电或n型导电,该结构的至少另一部分(即一层或一层以上的外反射器和共振腔层)是导电的,而且是n型导电或P型导电,但其导电类型与所述一部分不同;该结构还包括分别与所述结构的所述一部分和所述另一部分作电阻接触的第一和第二导电装置,其特征在于:往所述导电装置施加正向偏压时,所述结构中就有电流通过,以使该结构根据电流的变化而改变所述共振腔层的折射率,从而改变调制器的光透射率,以便根据所述电流的所述变化而调制通过调制器的光束。
地址 澳大利亚维多利亚省