| 主权项 |
1.一种如下列式(Ⅰ)基恶二衍生物化合物,其中,A及 B由 含有氢及卤素的基团中选出;且R为CC_3C-CC_4C烷基或 C C_3C-CC_6C环烷基,苯基,苯基一CC_1C-CC_3C烷基, 二苯基甲基,苯氧基-CC_1C-CC_4C烷基或苯硫基-CC_1 C-CC_4C烷基,前述苯基,苯基-CC_1C-CC_3C烷基,二 苯基甲基,苯氧基-CC_1C-CC_4C烷基或苯硫基-CC_1C -CC_4C烷基之环上可任意经1-3个选自下列之取代基 取代:氯,溴,氟,硝基,CC_1C-CC_4C烷基,羟基,三 氟甲基,CC_1C-CC_4C烷氧基,伸甲二氧基,甲硫基,乙 醯基及氧基。2.如申请专利范围第1项之化合物,其 中R由下列式中的 基团中选出,其中,X互相独立地由CC_1C-CC_4C烷基,C C_1C-CC_4C烷氧基,氯,氟,三氟甲基或硝基中选出; 且Y为氢或甲基。3.如申请专利范围第1项之化合物 ,其中上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-a)4.如申请专利范围第1项之化合物,其中 上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-b)5.如申请专利范围第1项之化合物,其中 上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-c)6.如申请专利范围第1项之化合物,其中 上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-d)7.如申请专利范围第1项之化合物,其中 上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-e)8.如申请专利范围第1项之化合物,其中 上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-f)9.如申请专利范围第1项之化合物,其中 上列式(Ⅰ)为下 列式(Ⅰ-g)10.一种除草性组合物,其特征为包含充 分混合的适当载 体和作为有效成分的有效除草剂量的下列式(Ⅰ) 化合物, 其中,R,A及B如申请专利范围第1项定义。11.一种除 去不想要的植物或控制其生长的方法,其特征 为施用有效量的如申请专利范围第10项之组成物 到该不想 要的植物上。12.一种制备式(Ⅰ)化合物的方法,其 特征为在硷存在下 使下列式(Ⅱ)的化合物与式(Ⅲ)反应,其中,R,A及B如 申请专利范围第1项定义,Z为氯、溴、碘、氰、乙 醯氧 基或烷氧基。13.如申请专利范围第13项的方法,其 中所述之硷为碳酸 |
