| 摘要 |
<p>En plasmareaktor for en avsetnings- eller etsingsprosess omfatter et evakuert kammer (1) beregnet på å motta et substrat (5) for behandling og som har en innretning (3) for innføring av en gass som skal ionieres, idet plasmaet eksite- res ved hjelp av en antenne (8) matet av en effektgenerator (14) for radiofrekvenser og som omfatter en elektrisk leder (9) med utstrekning i et plan parallelt med substratet som skal beahandles. I dette plan felger antennelederen (9) flere og ikke mindre enn tre baner i vekselvis motsatte retninger fremover (10) og bakover (11).</p> |
