| 主权项 |
1.一种光学投影装置,包括:一照明系统,适于提供一光束;一反射式光阀,配置于该光束的传递路径上,该反射式光阀适于将该光束转换成一影像;一成像系统,配置于该影像的传递路径上;以及一第一反射元件,配置于该反射式光阀与该成像系统之间以及该反射式光阀与该照明系统之间,且位于该光束及该影像的传递路径上,该第一反射元件适于将该光束反射至该反射式光阀上,并将由该反射式光阀所产生之该影像反射至该成像系统中。2.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该第一反射元件包括一面镜。3.如申请专利范围第2项所述之光学投影装置,其中该面镜包括平面镜、曲面镜或非球面镜。4.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该第一反射元件包括一棱镜,该棱镜具有一反射层,其中该棱镜之该反射层适于将该光束反射至该反射式光阀上,并将由该反射式光阀所产生之该影像反射至该成像系统中。5.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该第一反射元件具有放大率。6.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该第一反射元件不具放大率。7.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该照明系统包括:一光源,适于提供该光束;以及多个第一光学元件,配置于该光束的传递路径上。8.如申请专利范围第7项所述之光学投影装置,其中该些第一光学元件包括透镜、平面镜、曲面镜、非球面镜、棱镜或上述之组合。9.如申请专利范围第7项所述之光学投影装置,其中该照明系统更包括一光积分柱,配置于该光源与该些第一光学元件之间。10.如申请专利范围第7项所述之光学投影装置,其中该光源包括汞灯、发光二极体、金属卤化物灯、卤素灯或高强度放电灯(high intensity discharge lamp,HID lamp)。11.如申请专利范围第7项所述之光学投影装置,其中该照明系统更包括一第二反射元件,配置于该些第一光学元件与该第一反射元件之间,以将该光束反射至该第一反射元件上。12.如申请专利范围第10项所述之光学投影装置,其中该第二反射元件包括一面镜。13.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该成像系统包括一投影镜头。14.如申请专利范围第13项所述之光学投影装置,其中该投影镜头包括多个第二光学元件。15.如申请专利范围第14项所述之光学投影装置,其中该些第二光学元件包括透镜、平面镜、曲面镜、非球面镜、棱镜或上述之组合。16.如申请专利范围第14项所述之光学投影装置,其中该投影镜头更包括一第三反射元件,配置于该些第二光学元件之间。17.如申请专利范围第16项所述之光学投影装置,其中该第三反射元件包括一面镜。18.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,其中该反射式光阀包括数位微镜装置或反射式单晶矽液晶面板。19.如申请专利范围第1项所述之光学投影装置,更包括一透镜,配置于该反射式光阀与该第一反射元件之间。图式简单说明:图1A与图1B绘示习知两种光学投影装置的结构示意图。图2A与图2B分别绘示依照本发明一较佳实施例所述之光学投影装置的结构示意图。图3绘示本发明另一实施例所述之光学投影装置的结构示意图。图4绘示本发明又一实施例所述之光学投影装置的结构示意图。 |
