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发明名称 Vorjustiergerät für Wafer
摘要
申请公布号 DE3506782(C2) 申请公布日期 1994.10.27
申请号 DE19853506782 申请日期 1985.02.26
申请人 SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC., WILTON, CONN., US 发明人 GALBURT, DANIEL N., NORWALK, CONN., US;BUCKLEY, JERE D., WILTON, CONN., US
分类号 H01L21/66;G03F9/00;H01L21/67;H01L21/68;H01L21/822;H01L27/04;(IPC1-7):G05D3/00;B65G49/07 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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