| 发明名称 |
WAFER CLEANING METHOD AND DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06224171(A) |
申请公布日期 |
1994.08.12 |
| 申请号 |
JP19930045641 |
申请日期 |
1993.01.25 |
| 申请人 |
KYUSHU KOMATSU DENSHI KK;KOMATSU ELECTRON METALS CO LTD |
发明人 |
KASHIWADA KATSUNOBU |
| 分类号 |
B08B11/04;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B08B11/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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