Process of making a metallization stage comprising contacts and runners which canneet these contacts.

摘要

Auf ein Substrat (1) wird ganzflächig eine isolierende Schicht (2) aufgebracht, in der Kontaktlöcher (4) zu zu kontaktierenden Bereichen geöffnet werden. Zur Erzeugung einer Leiterbahnmaske (6) wird eine Fotolackschicht aufgebracht, belichtet und so entwickelt, daß in belichteten Bereichen die Oberfläche der zu kontaktierenden Bereiche in Kontaktlöchern (4) mit Fotolack bedeckt bleibt, während die Oberfläche der isolierenden Schicht in den belichteten Bereichen freigelegt wird. Unter Verwendung der Leiterbahnmaske (6) als Ätzmaske werden in die isolierende Schicht (2) Gräben (7) geätzt. Durch Auffüllen der Kontaktlöcher (4) und der Gräben (7) mit Metall werden Kontakte und Leiterbahnen einer Metallisierungsebene fertiggestellt.