| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR ETCHING USING METHOD AND MANUFACTURE OF PHOTODETECTOR BY USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06163469(A) |
申请公布日期 |
1994.06.10 |
| 申请号 |
JP19920311866 |
申请日期 |
1992.11.20 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
ARINAGA KENJI;FUJIWARA KOJI;SUDO HAJIME;NAKAMURA HIROKO;KAJIWARA NOBUYUKI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H01L27/146;H01L31/0264;(IPC1-7):H01L21/302;H01L31/026 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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