| 主权项 |
1﹒一种至少有两层之层合物,其特点为其中 至少一层(聚合物层)包括含一个以上之 八氟环丁烷基之聚合物,具有八氟环丁烷 环之聚合物层以外之各层包含氧化矽、铝 、玻璃、聚苯乙烯、石墨及铜,其中之聚 合物系由至少一种具有式Ⅰ或Ⅲ所代表之 结构式之单体生成 式中R和R'各独立地代表无取代或经惰 取代之基;各个X和X'独立为一链、氧 原子、羧酸酯及硫羧酸酯基,其它含硫结 构式,全氟烯、全气烯醚,烯类、乙炔、 含磷基,其包括膦、羰基或硫羰基;硒基 ;硫基;氮阴离子基;合矽基,其包括矽 烷二基,三矽烷二基,四矽烷四基,矽氧 烷二基,二矽氧烷二基,三矽氧烷基,三 矽胺烷基或矽烷硫基;含硼基,其包括硼 烷二基或甲硼烷二基;及其组成;m为1 -3之整数;n及n,分别为1-4之整 数;而G及G'各自独立为羰基(醇系及 酚系)及其酯,羧酸基,硫羧酸基,硫羧 酸酯及羧酸酯,醯基卤化物,其包括氯化 物,异氰酸酯,醯基叠氮化物,乙醯基, 三卤乙醯基,一级或二级胺,硫化物基, 磺酸基,磺醯胺基,酮,醛,环氧基,一 级或二级醯胺,卤基,硝基,氰基,酐, 醯亚胺,氰酸基,乙烯粮,丙烯基,乙炔 基;合矽取代基,其包括烷基矽烷,矽氧 烷,氯矽烷,含磷基,其包括膦、磷酸基 ,磷酸基;含硼基,其包括甲硼烷;可转 换成反应性官能基之基团,其包括酯类; 三卤甲基;或烷氧基。 2﹒如申请专利范围第1项所述之层合物,其 中之聚合物之平均分子量至少为10,000 ,且有至少一加强层或填充层。 3﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合物 ,其中包括至少一聚合物层及至少一其他 层,后者之组成与聚合物层不同,该层包 括木材,陶土,石,矽,氧化矽,金属氧 化物,金属或金属气化物合金,金属,半 导体,不同组成之聚合物,陶瓷,玻璃, 光纤,纸,合成纤维,布,或其组合。 4﹒如申请专利范围第1或2项所述之屠合物 ,其中之聚合物于其组成与该聚合物不同 之至少一层上生成一种环境保护性,防同 件,流体静力学安定性,辐射抗性或化学 品抗性涂层。 5﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合物 ,其中之层合物为内衬导管,阀门内衬, 封,密合垫,或其组合。 6﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合物 ,其中之层合物为医疗设备,病房设备, 特用或其他衣着,床单,仪器,防火涂料 ,或其组合。 7﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合物 ,其中之层,句为眼镜,窗,涂层玻璃, 暖房,天窗,烤炉窗,太阳能电池,紫外 光滤光镜,或其组合。 8﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合物 ,其中之层合物为包括,烘烤袋,爆米花 袋,沸腾袋,冷冻食品托盘,微波用食物 容器,可蒸馏袋,或其组合。 9﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合物 ,其中之层合物为带有防垢涂层之物料, 带有水底绝缘之物件,带有电绝缘之物件 ,带有防霉涂层之物件,或其组合。 10﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合 物,共中之层合物为汽车车体部件,容器 ,模,涡轮叶片,槽,食物加工设备,低 温冷冻容器,压热锅,烤炉,热交换器, 燃料容器,或其组合。 11﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合 物,其中之层合物为灯泡,地毯,浴缸, 莲蓬头,睡袋,帆,雨衣,保护性衣着, 床垫,家俱,窗帘,枕头,玩具,帐,萤 帐,微波烹调器具,冰箱(内侧或外侧) ,烹调器具,加有涂层之烹调器具用用具 ,磁砖,游泳池内衬,侧墙,屋顶,或其 组合。 12﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合 物,其中之层合物为电开关壳,电池组, 电池组分隔板;照相,X─光,或其他造 影软片,或其组合。 13﹒如申请专利范围第5项所述之层合物, 其保被用于电子装置比其中至少一其他层 包括矽,氧化矽,金属,金属氧化物,金 属或金属氧化物合金,半导体,具有不同 组成之聚合物,陶瓷,玻璃,纸,合成纤 维,石英或其混合物。 14﹒如申请专利范围第13项所述之层合物, 其中之聚合物为装置中之绝缘体。 15﹒如申请专利范围第13项所述之层合物, 其中该电子装置系被用于电脑。 16﹒如申请专利范围第1或2项所述之层合 物,其中之层合物系经由将聚合物与具有 不同组成的物料隔开而生成者。 17﹒一种制备层合物之方法,包括涂层至少 一种物料之步骤,其特点为该物料涂覆以 含一个以上之八氟环丁烷基之聚合物,其 中之聚合物系由至少一种具有式Ⅰ或Ⅱ所 代表之结构式之单体生成 式中R和R'各独立地代表无取代或经惰 性取代之基;各个N和X'独立为一键、 氧原子、羧酸酯及硫羧酸酯基,其它含硫 结构式,全氟烯、全氟烯醚,烯类、乙炔 、含磷基,其包括膦、羰基或硫羰基;硒 基;碲基;氮阴离子基;含矽基,其包括 矽烷二基,三矽烷二基,四矽烷四基,矽 氧烷二基,二矽氧烷二基,三矽氧烷基, 三矽胺烷基或矽烷硫基;含硼基,其包括 嚅烷二基或甲硼烷二基;及其组成;m为 1-3之整数;n及n'分别为1-4之 整数;而G及G'各自独立为羟基(醇系 及酚系)及其酯,羧酸基,硫羧酸基,硫 羧酸酯及羧酸酯,醯基卤化物,其包括氯 化物,异氰酸酯,醯基叠氮化物,乙醯基 ,三曲乙醯基,一级或二级胺,硫化物基 ,磺酸基,磺醯胺基,酮,醛,环氧基, 一级或二级酯胺,卤基,硝基,氰基,酐 ,醯亚胺,氰酸基,乙烯粮,丙烯基,乙 炔基;含矽取代基,其包括烷基矽烷,矽 氧烷,氯矽烷,含磷基,其包括膦,磷酸 基,磷酸基;含硼基,其包括甲硼烷;可 转换成反应性官能基之基团,其包括酯类 ;三卤甲基;或烷氧基。 18﹒ 如申请专利范围第17项所述之方法,其 中之聚合物于涂覆步骤前倾聚合至未完全 聚合的阶段且随后将涂层曝露于聚合反应 进行之条件下。 |
