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发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Schicht auf einem Substrat.
摘要
申请公布号 DE3788678(T2) 申请公布日期 1994.04.28
申请号 DE19873788678T 申请日期 1987.04.06
申请人 SEIKO INSTRUMENTS INC., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 KAITO, TAKASHI, KOTO-KU TOKYO, JP;ADACHI, TATSUYA, KOTO-KU TOKYO, JP
分类号 H01L21/3213;C23C16/16;C23C16/48;H01L21/027;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/027;H01L21/320 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人
主权项
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