| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR ION IMPLANTATION OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06111752(A) |
申请公布日期 |
1994.04.22 |
| 申请号 |
JP19930011946 |
申请日期 |
1993.01.27 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
FUREDERITSUKU JIEI ERU ROBINSON;MAIKERU TEI UOOKU ZA SEKANDO |
| 分类号 |
C23C14/48;C23C14/50;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/317 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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