| 发明名称 |
HEAT TREATMENT METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH0677221(A) |
申请公布日期 |
1994.03.18 |
| 申请号 |
JP19920224394 |
申请日期 |
1992.08.24 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
SHIMA SHOHEI;SUGURO KYOICHI;OKANO HARUO |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/3205;H01L21/324;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/320 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
