| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING CMOS SEMICONDUCTOR COMPONENTS WITH LOCAL INTERCONNECTS |
| 摘要 |
L'invention concerne un procédé de fabrication de composants CMOS avec des interconnexions locales, qui se déroule en deux étapes. La première étape consiste à effectuer un procédé aux siliciures et la deuxième concerne la réalisation des 'interconnexions locales'. |
| 申请公布号 |
WO9326042(A1) |
申请公布日期 |
1993.12.23 |
| 申请号 |
WO1993EP01452 |
申请日期 |
1993.06.09 |
| 申请人 |
DEUTSCHE ITT INDUSTRIES GMBH |
发明人 |
WILMSMEYER, KLAUS |
| 分类号 |
H01L21/768;H01L21/8238;H01L27/092;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/90 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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