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发明名称 Forming wide dielectric filled isolation trenches in semiconductors.
摘要
申请公布号 EP0424608(B1) 申请公布日期 1993.12.01
申请号 EP19900110401 申请日期 1990.06.01
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 KERBAUGH, MICHAEL L.;KOBURGER III, CHARLES W.;MACHESNEY, BRIAN J.
分类号 H01L21/311;H01L21/76;H01L21/3105;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/76;H01L21/310 主分类号 H01L21/311
代理机构 代理人
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