| 主权项 |
1﹒一种低甲醛聚体乳胶组成物之制法﹒其特 征为:于该组成物中添加选自下列之至少 一种甲醛清除剂: (I)下式化合物 式中﹒A选自O、NH及NR2;R1选自 H、3─烯丙氧基─2─羟其丙基、甲基 丙烯醯基、丙烯醯基及甲其丙烯氧基乙醯 基;而当R1为3─烯丙氧基一2一羟基 丙基时﹒R2代表3─烯丙氧基─2─羟 基丙基; ('2)式R3CH2R4所示之化合物﹒ 式中 R3及R4两者均为─C(O)OR5; R3为CH3C(O)─,而R4为─C(O)O R5; R3为─CN,而R4系选自─C(O)NH2 及─C(O)OR5;或 R3为CH3C(O)─而R4为─c(o)OCH: CH2OC(O)C(CH3)=CH2;R5为C1一C6 烃基;(3)下式化合物(4)羟基胺;(5)羟基胺与酸形成 之盐类,而该 酸之酸离解常数之负对数値不超过5﹒0;(6)下式化 合物之聚合残留物 式中,A选自O、NH及NR2;R6选自 3─烯丙氧基─2─羟基丙基、甲基丙烯 醯基或甲基丙烯氧基乙醯基; 而当R1为3─烯丙氧基─2─羟基丙基 时﹒R2代表3─烯丙氧基─2─羟基丙 基;以及(7)下式化合物之聚合残留物 CH3C(O)CH2,─C(O)OCH2CH2OC(O) C(CH3)=CH2。 2﹒如申请专利范围第1项之制法﹒其中该甲 醛清除剂系选自N─羟乙基乙撑、乙醯 醋酸乙酯、2﹒4─戊二酮、2─氰基醋 酸酯、2─氰基乙醯胺、三羟甲基丙烷三 氰基醋酸酯、及甲基丙醯氧基乙基乙撑 之聚合残留物者。 3﹒如申请专利范围第2项之制法,其中该甲 醛清除剂系甲其丙醯氧基乙撑之聚合残 留物者。 4﹒如申请专利范围第2项之制法﹒其中该甲 醛淆除剂系乙醯醋酸乙酯者。 5﹒如申请专利范围第1项之制法﹒其中该组 成物之pH系介于约3至6之间者。 6﹒如申请专利范围第5项之制法,其中该组 成物含有至少约0﹒5重量%之甲醛清除剂 (以聚合物固体计)。 7﹒如申请专利范围第6项之制法﹒其中该组 成物含有至少约0﹒1重量%之甲醛清除剂 (以聚合物固体计)。 8﹒如申请专利范围第1项之制法,其中该组 成物含有一具有N一羟甲基功能基之自络 接性聚体乳胶者。 9﹒如申请专利范围第8项之制法,其中该甲 醛清除剂系甲其丙醯氧基乙撑之聚合残 留物﹒含有甲其丙醯氧基乙撑之聚合残 留物之自络接性聚体乳胶。 10﹒一种用以使水性聚体乳胶组成物释出之 甲醛量降低之方法,其特征为在于该组成 物中添加一种选自下列之甲醛清除剂: (i)下式化合物 式中,A选自O、NH及NR2;R1选自 H、3─烯丙氧基一2一羟基丙基、甲基 丙烯醯基、丙烯醯基及甲基丙烯氧基乙醯 基;而当R1为3─烯丙氧基一3─羟其 丙基时﹒R2代表3一烯丙氧基─2一羟 基丙基;(2)式R3CH2R4所示之化合物, 式中 R3及R4两者均为一C(O)OR5; R3为CH3C(O)一,而R4为─C(O)O R5; R3为─CN,而R4选自─C(O)NH2及 ─C(O)OR5;或 R3为CH3C(O)一,而R4为─C(O) OCH2CHOOC(O)C(CH3)=CH2;R5为C1 一C6烃基;(3)下式化合物 NCCH 2C(O) OCH2─CH─(CH2CH2 OC(O)CH2CN)2;(4)挫基胺;(5)羟基胺与酸形成之盐类,所 该 酸之酸离解常数之负对数値不超过5﹒0; 以及(6)下式化合物之聚合残留物 式中,A选自O、NH及NR2;R6选自 3─烯丙氧基─2─羟基丙基、甲基丙烯 醯基、丙烯醯基或甲基丙烯氧基乙醯基; 而当R1为3─烯丙氧基─2─羟基丙基 时,R2代表3─烯丙氧基─2─羟基丙 基者,以及(7)下式化合物之聚合残留物 CH3C(O)─CH2─C(O)OCH2CH2OC(O) C(CH3)─CH2。图示简单说明 图1为一例示N一羟甲基丙烯醯胺离 解之平衡速率与pH之函数关系图(25℃) 图2为含有经过聚合之羟甲基丙烯醯 胺之自络接性水性聚体乳胶在乾操及熟化 期间用以测定甲醛释出量之设备的示意图 |
