| 发明名称 |
DEVICE FOR PRECISE RELATIVE ADJUSTMENT OF A MASK AND A SEMICONDUCTOR WAFER IN A LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD FOR ITS USE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0253349(B1) |
申请公布日期 |
1993.06.16 |
| 申请号 |
EP19870110093 |
申请日期 |
1987.07.13 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
MUELLER, KARL-HEINZ, DR. |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/68 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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