新型电磁控阴极电弧源

摘要

本发明是一种新型电磁控阴极电弧源，应用于真空镀膜。离子镀膜、离子渗金属领域的设备中，其特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小，在靶面产生的磁感应强度在10°-10-ZT范围变化，阴极电弧弧斑在靶面上由小环到大环周期变化。靶材烧蚀均匀，靶材利用率高。

主权项

1、一种应用于真空蒸镀、离子镀、离子渗金属领域设备中的新型电磁控阴极电弧源、由靶材(1)、阴极靶座(2)和安放在靶材后面的电磁线圈(3)组成，其特征在于所述的电磁线圈是一种在靶面产生的轴向磁场和径向磁场沿靶面不断变化的电磁线圈。