发明名称 | 磁光记录介质和它们的擦除方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种磁光记录介质,它包括一层基片、其磁化方向垂直于层表面的两层记录层以及插入所述两层记录层中间的一层磁屏蔽层。本发明也提供了所述磁光记录介质的擦除方法。 | ||
申请公布号 | CN1020820C | 申请公布日期 | 1993.05.19 |
申请号 | CN90101980.1 | 申请日期 | 1990.04.06 |
申请人 | 三井石油化学工业株式会社 | 发明人 | 山浩二 |
分类号 | G11B7/24;G11B11/00 | 主分类号 | G11B7/24 |
代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 全永留 |
主权项 | 1、一种磁光记录介质,它具有两层磁光记录层,其各自的磁化方向垂直于介质表面,其特征在于厚度为1000<img file="901019801_IMG1.GIF" wi="53" he="65" />-0.5mm、由高导磁材料组成的磁屏蔽层插在所述磁光记录层的中间。 | ||
地址 | 日本 |