| 发明名称 |
FORMING METHOD FOR AS2S3 FILM ON COMPOUND SEMICONDUCTOR CRYSTALLINE WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05102128(A) |
申请公布日期 |
1993.04.23 |
| 申请号 |
JP19910256663 |
申请日期 |
1991.10.03 |
| 申请人 |
HITACHI CABLE LTD |
发明人 |
TANI TAKEHIKO;SAKAGUCHI HARUNORI;MEGURO TAKESHI |
| 分类号 |
H01L21/314;H01L21/338;H01L23/29;H01L23/31;H01L29/778;H01L29/812 |
主分类号 |
H01L21/314 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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