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发明名称 ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND APPARATUS
摘要
申请公布号 KR930003134(B1) 申请公布日期 1993.04.22
申请号 KR19890001300 申请日期 1989.02.03
申请人 FUJITSU LTD. 发明人 YASUTA, HIROSHI;KAI, JUNICHI;MIYAKI, SHINJI;TAKAHASHI, YATSUSHI
分类号 G03F9/00;G03F7/20;H01J37/302;H01J37/317;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
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