发明名称 光可成像组合物
摘要 用以形成抗焊剂罩层之光可成像组合物具有一种光可聚合之丙烯酸酯化学系统,它致使经曝光之部份不溶于性含水之显影剂中及一种环氧化学系统,在曝光和显影后,它硬化组合物。该丙烯酸酯化学系统包括:丙烯酸酯单体,环氧-丙烯酸脂低聚物及一种光引发剂。该环氧化学系统包括:一种环氧树脂及为此之一种固化剂。该组合物另外包括一种交联剂,它与丙烯酸酯和环氧化学系统的羟基基团起反应。
申请公布号 TW199212 申请公布日期 1993.02.01
申请号 TW079104192 申请日期 1990.05.23
申请人 马顿国际有限公司 发明人 文纳.姆.泰拉;凯西.姆.菲林;凯瑟林.拉.尼尔森
分类号 C08L33/04;C08L65/00;G03C1/30 主分类号 C08L33/04
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种光可成像组合物,包括:(a)15至35重量%的一种 可 聚合之多官能基丙烯酸系单体,(b)3至15重量%的一 种感 光性,产生自由基之引发剂化学系统,于有光化辐 射存在 时,此系统引发丙烯酸系部分的聚合,(c)5至35重量% 之 环氧—丙烯酸酯低聚物,其为双酚环氧化物及/或 酚醛环 氧化物之丙烯酸酯,(d)20至80重量%之一种环氧树脂 组合 物,包含双酚环氧化物及/或酚醛环氧化物,随着曝 光于 光化辐射中后,此组合物可固化而使该光可成像组 合物硬 化,(e)0.1至10重量%之适合环氧树脂之一种酸性固化 剂 ,其为具有羧酸保护部分之羧酸酐或羧酸,(f)至多15 重 量%之一种能与羟基基团起反应之交联剂,其为三 聚氰胺 —甲醛树脂或经保护之多官能基异氰酸酯,组份(a) 至(f) 系被选择以使此等组份能在一种有机溶剂中形成 均匀溶液 ,再乾燥成为均匀组合物(此组合物可溶于性水溶 液中), 因此,该光可成像组合物在含水或 性水溶液中可 显像。2.根据申请专利范围第1项之光可成像组合 物,其中固化 剂(e)是一种潜在催化剂(具有羧基基团及保护此等 羧基之 保护部份),高于一临界温度时,此催化剂变成脱去 保护 ,于是在高于该临界温度时,促进了环氧树脂的固 化。3.根据申请专利范围第1项之光可成像组合物, 其中交联 剂(f)是三聚氰胺—甲醛树脂。4.根据申请专利范 围第1项之光可成像组合物,其中交联 剂(f)是经保护之多官能基异氰酸酯。5.根据申请 专利范围第1项之光可成像组合物,更包括一 种可分散之有机或无机填料,其浓度为:相对于组 份(a)- (f)之总重量,至多35重量%。6.一种组合体,具有一基 质及于其上之一层根据申请专利 范围第1项的光可成像组合物,该基质是印刷电路 板,该 层之光可成像组合物可处理而产生抗焊剂罩层。7 .根据申请专利范围第1项之光可成像组合物,另外 包括 一种有机溶剂,其浓度为:相对于组份(a)-(f)的总重 量 ,在10与60重量%间。8.根据申请专利范围第1项之光 可成像组合物,其可被涂
地址 美国