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经营范围
发明名称
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURE OF SAID SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH0513799(A)
申请公布日期
1993.01.22
申请号
JP19910164391
申请日期
1991.07.04
申请人
FUJITSU LTD
发明人
SUGIYAMA IWAO
分类号
H01L21/365;H01L31/10;(IPC1-7):H01L31/10
主分类号
H01L21/365
代理机构
代理人
主权项
地址
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