发明名称 PROCESS AND DEVICE FOR EMISSION SPECTROSCOPY
摘要 <p>Verfahren für die Emissionsspektroskopie, insbesondere die Laser-Emissionsspektroskopie, bei dem die von laserinduziertem Plasma des zu analysierenden Werkstoffs emittierte Strahlung (40) von einem Spektrometer (10) zerlegt und zumindest ein Teil des ermittelten Spektrums einer Verarbeitungseinrichtung (31, 45) zur Elementanalyse transferiert wird. Um das Verfahren hinsichtlich der Meßgenauigkeit und der Schnelligkeit zu optimieren, wird es so ausgeführt, daß eine Beeinflussung der Intensität der plasmabildenden Laserstrahlung (2) zur Erzeugung definierter Plasmazustände in Abhängigkeit von zumindest einem emissionsbeeinflussenden Parameter erfolgt, der während der Plasmabildung gemessen wird, und daß der Transfer des ermittelten Spektrums oder eines Teils desselben zur Verarbeitungseinrichtung (31, 45) durchgeführt wird, sofern sich der gemessene Plasmaparameter innerhalb eines vorbestimmten Toleranzbereichs (T1./.T2) befindet.</p>
申请公布号 WO1992021957(A1) 申请公布日期 1992.12.10
申请号 DE1992000447 申请日期 1992.06.02
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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