发明名称 | 硅器件芯片背面银系溅射金属化 | ||
摘要 | 本发明采用先进的磁控溅射技术,以成本较低的金属银作为硅器件背面金属化层主要材料,采用先进的快速热退火工艺,成功地解决了硅器件背面金属化结构的可靠性问题。溅射方法制备的背面金属化结构,层间热应力匹配好,欧姆接触性能优良,具有良好的浸锡沾润性能和很强的附着能力。实验表明,本方法显著地改善了晶体管的电学性能,热疲劳试验达3万次,达到高可靠质量要求,溅射银系工艺成本低,便于推广。 | ||
申请公布号 | CN1017950B | 申请公布日期 | 1992.08.19 |
申请号 | CN89109303.6 | 申请日期 | 1989.12.18 |
申请人 | 北京大学 | 发明人 | 张利春;赵忠礼;高玉芝;宁宝俊;王阳元 |
分类号 | H01L21/28;H01L21/283 | 主分类号 | H01L21/28 |
代理机构 | 北京大学专利事务所 | 代理人 | 郑胜利 |
主权项 | 1.一种包括硅器件芯片背面研磨、硅器件芯片清洁处理、硅、器件芯片背面溅射金属的硅器件芯片背面金属化方法,其特征在于工艺过程还包括:(1)将以下任何一组金属分层依次溅射到硅器件芯片的背面:①第一组金属为钛、镍、银,溅射的层次是第一层为钛,第二层为镍,第三层为银,②第二组金属为铬、银铜合金,溅射的层次是第一层为铬,第二层为银铜合金,③第三组金属为铬、镍、银,溅射的层次是第一层为铬,第二层为镍,第三层为银;(2)将溅射后的硅器件芯片进行用以消除溅射所造成表面损伤,增加各金属层之间的渗透及表面层的锡浸润性能的快速热退火处理,热退火采用氮气保护,退火的温度为400-500℃,退火的时间为10秒-20秒。 | ||
地址 | 北京市海淀区中关村 |