VAPOR DEPOSTION PROCESS FOR DEPOSITING AN ORGANO-METALLIC COMPOUND LAYER ON A SUBSTRATE.

摘要

L'invention consiste en l'application sur un substrat d'un précurseur d'un composé organo-métallique, le précurseur se composant, de préférence, d'une ou de plusieurs paires d'éléments des groupes III et V remplacés par des ligands. Le précurseur est décomposé et se dépose sur une couche réceptrice, maintenue à la température de décomposition de la matière vaporisée.