发明名称 TARGET FOR CATHODE SPUTTERING
摘要 <p>Cible de pulvérisation cathodique et ensemble de cible (12) comprenant un élément de cible (10) présentant une surface supérieure (17) presque entièrement concave et une surface intérieure (18) comportant un moyeu central (21) orienté vers le bas et au moins trois régions annulaires ayant des rayons de courbure différents (23, 27, 25). La forme de la surface inférieure (18) de l'élément de cible (10) correspond à celle de la plaque de socle (11) sur laquelle est monté l'élément de cible (10), ceci facilitant le montage précis de l'élément de cible (10) pendant la pulvérisation cathodique. Les formes concordantes de l'élément de cible (10) et de la plaque de socle (11) contribuent à l'utilisation maximale du matériau de pulvérisation cathodique.</p>
申请公布号 WO1992013115(A1) 申请公布日期 1992.08.06
申请号 US1991008584 申请日期 1991.11.18
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址