| 发明名称 |
PROCESS FOR PRODUCING DEFINED ARSENIC DOPING IN SILICON¹SEMI-CONDUCTOR SUBSTRATES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IE914499(A1) |
申请公布日期 |
1992.07.01 |
| 申请号 |
IE19910004499 |
申请日期 |
1991.12.20 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/22;H01L21/225;H01L21/316;H01L21/334;(IPC1-7):H01L21/22 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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