| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Herstellung von ganzflächigen oder partiellen metallischen Schichten aus einer metallorganischen Verbindung auf einem Substrat durch Bestrahlung mit einer Lichtquelle vorgeschlagen, bei dem ein mit der metallorganischen Verbindung (2) beschichteter UV- oder lichtdurchlässiger Träger (1) mit vorgegebenem Abstand (A) vor dem Substrat (3) angeordnet wird, wobei die metallorganische Verbindung dem Substrat zugewandt ist. Anschließend wird die metallorganische Verbindung der Einwirkung von gepulsten Photonenstrahlen einer definierten Wellenlänge, vorzugsweise der Wellenlänge 190 nm...550 nm, ausgesetzt. Alternativ wird der Photonenstrahl mit Hilfe einer Linse (5) gebündelt und ist gegenüber dem Träger/Substrat (1/2/3) in XYZ-Richtung verschiebbar oder es befindet sich eine Maske (23,26) vor oder hinter dem Träger (1). Anschließend erfolgt eine Verstärkung der metallischen Schicht durch stromlose oder galvanische Metallisierung. <IMAGE></p> |
