| 发明名称 | 制备氮杂环烷烃衍生物的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种制备式(I)所示衍生物的方法，其特征在于在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转移催化剂存在下处理环状化合物(II)，生成化合物(III)，然后用式R(CH<SUB>2</SUB>)nX的烷基卤处理化合物(III)，生成氮杂环烷烃衍生物(I)，式中各取代基定义见说明书。 | ||
| 申请公布号 | CN1060287A | 申请公布日期 | 1992.04.15 |
| 申请号 | CN91109720.1 | 申请日期 | 1987.02.12 |
| 申请人 | 久光制药株式会社 | 发明人 | 辻正义;井上寿孝;八谷照美;中岛幹夫;齐田胜;下园雄治;境美智顺;中川晃 |
| 分类号 | C07D227/087;A61K31/395 | 主分类号 | C07D227/087 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 李瑛 |
| 主权项 | 1、一种制备式(Ⅰ)所示的氮杂环烷烃衍生物的方法， 其中A是-CH2-，B是氧，R′是氢原子，R是-SR″，其中R″是(C2-C11)烷基或R是-OR″，其中R″是(C4-C11)烷基，m是1或3的整数，n是2-15的整数，该方法的特征在于包括： 在0-300℃下，在溶剂中和在碱催化剂或间界层转移催化剂存在下处理式(Ⅱ)所示的环状化合物 其中A，B，R′和m定义同上，生成式(Ⅲ)所示的化合物 其中M是碱金属离子，A，B，R′和m定义同上，然后 用式R(CH2)nX所示的烷基卤处理化合物(Ⅲ)，其中X是卤原子，甲磺酰基，或甲苯磺酰基，n和R定义同上，从而生成氮杂环烷烃衍生物(Ⅰ)。 | ||
| 地址 | 日本佐贺县 | ||