发明名称 Method for measuring electrical potentials in a semiconductor device.
摘要 Die optische Absorptionskante eines Halbleiters wird in einem elektrischen Feld zu kleineren Photonenenergien verschoben. Das erfindungsgemäße Verfahren nutzt diesen elektroabsorptiven Effekt, um elektrische Potentiale in Halbleiter-Bauelementen zu messen. Verwendet wird eine Lasersonde (LA), die man mit Hilfe einer Optik (L, OL) in die Ebene (FE) der signalführenden Elemente fokussiert. Da die von diesen Elementen ausgehenden elektrischen Streufelder das Absorptionsverhalten des Halbleitersubstrats lokal beeinflussen, lassen sich die entsprechenden Potentiale durch Messung der Intensität der reflektierten oder transmittierten Strahlung bestimmen. Eine große Tiefenauflösung der Messung wird durch einen konfokalen Strahlengang erreicht. <IMAGE>
申请公布号 EP0480205(A2) 申请公布日期 1992.04.15
申请号 EP19910115654 申请日期 1991.09.16
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SOELKNER, GERALD, DR.
分类号 G01R19/00;G01R31/302;G01R31/308;H01L21/66 主分类号 G01R19/00
代理机构 代理人
主权项
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