| 摘要 |
<p>Nichtpolymere Verbindungen werden beschrieben, die mindestens ein aromatisches Ringsystem mit einem oder mehreren Tetrahydropyranyloxysubstituenten der Formel I aufweisen: <IMAGE> wobei R1Wasserstoff, Halogen, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl, Alkoxy oder Aryloxy, R2 Wasserstoff, Alkyl, Cycloalkyl oder Aryl, R3 einen gesättigten oder ungesättigten Kohlenwasserstoffrest, R4, R5 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, Alkyl, Alkoxy oder Aryloxy und X eine direkte Einfachbindung, eine Methylen- oder Ethylenbrücke bedeuten können. Die Verbindungen sind besonders geeignet zur Herstellung von Photoresistzusammensetzungen, die sowohl zur Erzeugung positiver als auch negativer Abbildungen eingesetzt werden können. Die Photoresists können bevorzugt für die Tief-UV-Mikrolithographie verwendet werden.</p> |
