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发明名称 METHOD OF CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING AN ELECTRONIC COMPONENT SUBSTRATE AND POLISHING SLURRY THEREFOR
摘要
申请公布号 US5084071(A) 申请公布日期 1992.01.28
申请号 US19900481941 申请日期 1990.02.23
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 NENADIC, ANTON;PASCO, ROBERT W.
分类号 C09G1/02;H01L21/306;H01L21/48 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
主权项
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