| 发明名称 |
A METHOD OF REMOVING UNDESIRED CARBON DEPOSITS FROM THE INSIDE OF A CVD REACTION CHAMBER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0280539(B1) |
申请公布日期 |
1992.01.22 |
| 申请号 |
EP19880301597 |
申请日期 |
1988.02.24 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
发明人 |
YAMAZAKI, SHUNPEI |
| 分类号 |
C23C16/26;B01J19/00;C23C16/27;C23C16/44;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;C23G5/00 |
主分类号 |
C23C16/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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