发明名称 |
饱和光学 |
摘要 |
本发明揭示一种成像系统,其包含一侦测器,该侦测器用于接收电磁能并依据该所接收之电磁能产生取样资料。该侦测器之特征为具有一临界值点,其使得该取样资料系处于两种状态之一:i)当所接收电磁能之强度系小于该临界值点时,该取样资料低于临界值;以及ii)当该电磁能之强度系大于该临界值点时,该取样资料高于临界值。该成像系统亦包含用于提供该取样资料之一特征之饱和光学,其中当低于临界值时该取样资料之一特征系不同于当高于临界值时该取样资料之该特征。 |
申请公布号 |
TW200813593 |
申请公布日期 |
2008.03.16 |
申请号 |
TW096118434 |
申请日期 |
2007.05.23 |
申请人 |
CDM光学有限公司 |
发明人 |
芮吉斯S 凡;艾德华R 多斯基 二世;肯尼斯S 库巴拉 |
分类号 |
G03B11/00(2006.01);G02B13/00(2006.01);G02B27/46(2006.01) |
主分类号 |
G03B11/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 |