Illumination arrangement for the exposure of a photomultiplier in a double beam photometer.

摘要

Ein Photomultiplier (10) mit einer länglich-rechteckigen, zu der Eintrittsöffnung (14) verkanteten Kathode (20) wird abwechselnd von einem Messlichtbündel (36) und einem Referenzlichtbündel (40) beaufschlagt. Das Messlichtbündel (36) und das Referenzlichtbündel (40) verlaufen dabei in einer zu den Längskanten der Kathode (20) parallelen Ebene und fallen so auf die Kathode (20), dass sie gleiche Flächen der Kathode (20) beaufschlagen. <IMAGE>