发明名称 |
Scanner calibration method and apparatus for generating defined amplitudes of scattered light. |
摘要 |
<p>Die dargestellte Vorrichtung beinhaltet ein Verfahren zum Kalibrieren von Licht-Scannern und enthält eine Anordnung zum Erzeugen definierter Streulichtamplituden, speziell für die Messung von Partikeln und/oder die Oberflächeninspektion von Substraten, insbesondere von Wafers. Dabei gelangt das von einem Laser (20) ausgestrahlte und focusierte Licht auf ein Referenzmedium (27) das ausserhalb der Fokusebene (10) angeordnet ist. Durch Vergleich des Streulichtanteils zwischen zu inspizierenden Substrat und Referenzmedium mit Hilfe eines Photodetektors (7) wird die Oberfläche des Wafers analysiert. <IMAGE></p> |
申请公布号 |
EP0447848(A2) |
申请公布日期 |
1991.09.25 |
申请号 |
EP19910102967 |
申请日期 |
1991.02.27 |
申请人 |
T E T TECHNO INVESTMENT TRUST SETTLEMENT |
发明人 |
MALIN, COSMAS;HOYLE, PHILIP |
分类号 |
G01N21/93;G01N21/88;G01N21/47;G01N21/94;G01N21/956 |
主分类号 |
G01N21/93 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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