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发明名称
FORMATION OF SIO2 FILM ON METALLIC SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH03211285(A)
申请公布日期
1991.09.17
申请号
JP19900005542
申请日期
1990.01.12
申请人
AISIN SEIKI CO LTD
发明人
NISHIMURA KAZUHIKO;YOSHIDA MUTSUMI;OI TAMIO;ISHII MASAMI
分类号
C23C18/12
主分类号
C23C18/12
代理机构
代理人
主权项
地址
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