羰基化合物之制法

摘要

一种羰基化合物之制法，其包括在醇类溶剂中于钯和多氧阴离子当作活性成份之触媒系统存在下，在０至200℃、常压至20kg/c㎡之压力下，氧化具有２至12个碳原子之直链或支链烯烃，该醇类溶剂包括具有１至７个碳原子的单元醇及／或包括一种具有１至７个碳原子的多元醇，且该醇类溶剂任意含有水份；该多氧阴离子系选自杂多氧阴离子及异多氧阴离子，两者皆包括含有Mo、W、V、Nb或Ta之单一金属成份型及至少含有Mo、W、V、Nb或Ta两种金属的混合配位型；其中该多氧阴离子对钯化合物之莫耳比为0.5至100。