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发明名称
PROCESS OF CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER AND DEVICE THEREOF
摘要
申请公布号
JPH0362521(A)
申请公布日期
1991.03.18
申请号
JP19890197519
申请日期
1989.07.28
申请人
MITSUBISHI ELECTRIC CORP
发明人
OMORI MASASHI;KABASAWA MASAYA;KOTO SATORU;OGUSHI TETSURO
分类号
H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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