| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMED BY USING THIS COMPOSITION AND PRODUCTION OF PATTERN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH031145(A) |
申请公布日期 |
1991.01.07 |
| 申请号 |
JP19890137091 |
申请日期 |
1989.05.29 |
| 申请人 |
KURARAY CO LTD |
发明人 |
KAWATSUKI YOSHIHIRO;WATANABE MUTSUJI;OSADA SHIRO |
| 分类号 |
G03F7/038;C08L33/04;C08L33/14 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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