发明名称 PROCESS FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP0280197(A3) 申请公布日期 1990.05.23
申请号 EP19880102382 申请日期 1988.02.18
申请人 OKI ELECTRIC INDUSTRY COMPANY, LIMITED;FUJI CHEMICALS INDUSTRIAL CO., LTD. 发明人 KAIFU, KATSUAKI OKI ELECTRIC INDUSTRY CO., LTD.;KOSUGE, MAKI OKI ELECTRIC INDUSTRY CO., LTD.;YAMASHITA, YOSHIO OKI ELECTRIC INDUSTRY CO., LTD.;ASANO, TAKATERU FUJI CHEMICALS INDUSTRIAL CO. LTD.;KOBAYASHI, KENJI FUJI CHEMICALS
分类号 G03F7/09;(IPC1-7):G03F7/02 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人
主权项
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