| 发明名称 |
PROCESS FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING A MASK, AND RESIST MATERIAL THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0251447(A3) |
申请公布日期 |
1990.04.04 |
| 申请号 |
EP19870303876 |
申请日期 |
1987.04.30 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
FUJIMURA, SHUZO;YANO, HIROSHI |
| 分类号 |
H01L21/30;G03F7/022;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/265;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/312;G03C1/68 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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