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Aus Verbindungen der Formel I oder II <IMAGE> worin n für Null, 1 oder 2 steht, und beispielsweise R¹ ein H-Atom, C1-C10-Alkyl, Phenyl oder Benzyl bedeutet, R², R³, R<4>, R<5>, R<6>, R<7> und R<8> unabhängig voneinander je ein H-Atom Halogenatom, C1-C10-Alkyl, Phenyl, Naphthyl oder den Rest -COOR<9> <IMAGE> oder SO2R<9> bedeuten, worin R<9> ein C1-C6-Alkyl oder Phenyl bedeutet, X für O, S oder NR¹° steht, wobei R¹° ein H-Atom, C1C6-Alkyl oder Phenyl bedeutet, Y für einen Rest der folgenden Formeln <IMAGE> <IMAGE> worin R¹¹ ein H-Atom, C1-C6-Alkyl oder Phenyl bedeutet, Z für einen aliphatischen, mindestens zwei Methylengruppen enthaltenden Rest steht und R¹² und R¹³ unabhängig voneinander je ein C1-C10-Alkyl, Phenyl oder Naphthyl bedeutet, lassen sich durch radikalische Polymerisation polymere β-Ketoesteracetale herstellen, die sich in Kombination mit Verbindungen, die unter Einfluss aktinischer Strahlung Säure abspalten, als positive Photoresists eignen, welche zur Herstellung von Druckplatten, gedruckten Schaltungen, integrierten Schaltkreisen oder silberlosen Filmen geeignet sind.
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